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化学抛光是靠化学溶解作用得到光滑的抛光表面。这种方法操作简单，成本低廉，不需要特别的仪器设备，对原来式样表面的光洁度要求不高，这些优点给全自动精密工作者带来很大的方便。
化学抛光和电解抛光原理类似，是化学药剂对式样表面不均匀溶解的结果。溶解过程中表层也产生一层氧化膜。但化学抛光对试样原来凸起的部分的溶解速度比电解抛光慢，因此经化学抛光后的 磨面较光滑，但不平整，有波浪起伏，这种起伏一般在 物镜的垂直鉴别能力之内，适于用金相试样切割机作低倍和中倍观察。
化学抛光是将试样侵在化学抛光液中，进行适当的搅动，或用棉花经常擦拭，经过一定时间后，就可以得到表面光亮，化学抛光兼有腐伺的 作用，能显示全自动精密组织，抛光后直接在金相试样切割机下观察。
本文关键词:金相试样切割机,全自动精密化学,抛光
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