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MPD-2W金相试样磨抛机


MPD-2W金相试样磨抛机
 


一、产品简介:

MPD-2W金相试样磨抛机是我厂最新研发的一款设备,机身采用ABS整体注塑,具有耐冲击、耐腐蚀等特点,相比金属外壳,其外形也更加流畅,美观。密封式进出水结构;流水与线路板完全隔开。超大超深磨样室,有效阻挡冷却水及磨抛液外溅,研磨抛光较大工件时操作更加方便。 该设备适用于金属、陶瓷、岩石、电子器件等各类样件的精密研磨抛光,本机集粗磨、精磨、抛光等功能与一体,更换砂纸方便快捷,具备多种磨抛盘选择,满足各类实验的研磨抛光要求。

二、产品特点:
1、采用整体注塑外壳设计
2、密封式进排水系统
3、多种磨抛盘选择(200mm、230mm 、250mm、 300mm)
4、双盘双工位系统
5、定转速具备(定速和无极调速)

?6、转速方式:正反转任意调节

7、360度任意旋转水龙头
? 三、技术规格:
1、机体形式:台式双盘
2、控制方式:双盘单控

3、磨盘转速:具备(高低定速+无极调速)功能

高低定速(500和1000或600和1200也可根据客户要求出厂设定速度)
变速(100-1500转/分钟速度可调)
4、转速方式:正反转任意调节
5、主机功率:550W
6、磨盘直径:φ230mm (可选配φ200、φ250、φ300mm等规格)
7、外形尺寸:850X750X450mm
8、电源 :220V
四、常用耗材:
1、金相砂纸:240、600、1000、1500#(其他规格400、2000#等)适用于常规金属类样件的研磨。
2、金刚石磨盘:240、600、1000、1500#(其他规格400、2000#等)适用于超硬材料样件的研磨。
3、金刚石砂纸:粒度:45-0.3um(适合超硬材料的精密研磨及粗抛,如陶瓷、晶体等材料)。
4、抛光布料:呢料、丝绒、羊毛等(对特殊材料也需要采用粗抛、精抛等多道抛光工艺)。
5、金刚石抛光剂:粒度:40-0.5um(比较广泛的抛光辅料,适合各类材料的抛光)。
6、金刚石悬浮液:粒度:40-0.5um(比较广泛的抛光辅料,更适合自动磨抛机使用)。
7、氧化铝抛光粉:粒度:30-0.5um (适合碳钢类样件的抛光)。
8、磁性磨盘:更便于更换砂纸及抛光布料。

 

 

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