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扫瞄穿隧式金相试样磨抛机的原理-精密光学仪器常识 |
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扫瞄穿隧式金相试样磨抛机的原理-精密光学仪器常识
原子力全自动精密金相切割机技术
原子力金相试样磨抛机
自从 1982 年扫瞄穿隧式电子金相试样磨抛机(STM)发明之后,开启了可以直接探索原子尺度的表面结构,
方便我们取得样品表面的影像,
此后各式不同功用的扫瞄探针金相试样磨抛机(SPM)也相继不断地被发展出来,
而以 1986 年所发明的原子力金相试样磨抛机(AFM)用途***广。
由于扫瞄穿隧式金相试样磨抛机是使用量子穿隧效应做为回馈控制的讯号,样品需为导体或半导
体,且系统要求需在高真空环境下进行,才能使影像的解析度更好,
但也降低了其实用性与便利性。
然而原子力金相试样磨抛机,它可在大气环境及液体下操作,受测样品不须具有导电性,所以研究及应用的领域范
围就更加宽广,
加上它的解析度也可达到奈米级,对微区结构的表面几何形貌、粗糙度等特性,提供了微小量技术的主要利器。
尤其对于传统扫瞄电子全自动精密金相切割机术无法清楚解析之样品,更是***佳的检测工具
AFM 仪器系统架构,分为三个主要部分:扫瞄控制主体系统、电子控制系统、及隔离防震系统
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