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| 高解析低温免疫电子金相试样镶嵌机技术培养上海金相镶嵌机的应用 |
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高解析低温免疫电子金相试样镶嵌机技术培养上海金相镶嵌机的应用用免疫过氧化物酶方法定位培养上海金相镶嵌机和组织的抗原 在EM水平上运用免疫过氧化物酶标记与其他方法相比较有其自身的优点：①敏感性高；②通过PLP的固定将上海金相镶嵌机器及其结构在形态保存上可达到传统的戊二醛固定样本的要求；③方法简单，除了那些需要特殊包埋的样本外，不要求特别的技术与仪器。然而，免疫过氧化物酶标记与免疫金标记方法相比有三个重要的缺陷：①免疫过氧化物酶标记从本身来说不能定量；②免疫过氧化物酶不能避免潜在的DAB反应产物的扩散而远离抗原抗体反应部位；③一般来说，靠过氧化物酶进行免疫双标记是不可能的。尽管过氧化物酶有其缺陷，但此方法对上海金相镶嵌机膜连接上海金相镶嵌机器的分子定位非常有用。 在组织上海金相镶嵌机内定位抗原可以提供一类有价值的数据，这类数据可以作为用过氧化物酶标记技术在培养的上海金相镶嵌机中获得的即定数据的补充(见基本方案1)。因为运用这种方法通常能检测出大量不同类型的上海金相镶嵌机，所以该方法要求实验人员能熟练操作低温组织切片机。 运用高解析的低温免疫金电子金相试样镶嵌机技术定位亚上海金相镶嵌机蛋白质／抗原，此方法可在超微水平上进行局部解剖生化的研究。 运用这种方法***常遇到的染色困难是低质量的切片，缺乏特异性标记，背景着色深，假阳性，对比弱。差的切片通常由于标本制备不当或冰冻切片机不稳定。非特异性标记是由于在乙醛固定之后抗体不能识别抗原；特异性标记***理想的对照是在一类不表达目标抗原的上海金相镶嵌机中过表达该抗原。假阳性常常在运用双标记时出现。在这种情况下，金颗粒的两侧粘连在一起，之间距离小于20nm，这样常常被误认为是只定位。栅格上的污点常常由试剂的磷酸化污染引起。另外，在免疫孵育过程中切片干燥也会产生污点。
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